网站首页
半导体材料
硅片
玻璃片
石英片
光刻胶
测试片
外延片
掩模版
SOI硅片
氧化硅片
其他特殊衬底
其他特殊硅片及耗材
MEMS微纳加工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
掺杂
切割
打孔
减薄
抛光
PI工艺
TSV工艺
PDMS工艺
光刻掩模版
特色工艺
其他工艺
设备
联系我们
新闻资讯
关于我们
企业文化
企业风采
公司资质
您现在所在位置:
首页
>>
半导体材料
>>
光刻胶
硅片
玻璃片
石英片
光刻胶
测试片
外延片
掩模版
SOI硅片
氧化硅片
其他特殊衬底
其他特殊硅片及耗材
TOK集团光刻胶配套试剂
发布日期:2024-04-25 18:22:00
浏览次数:209
TOK
配套试剂
产品类型
产品型号
包装规格
产地
稀释剂EBR
OK73
加仑/5L/20L/200L
常熟
PM thinner(PGMEA)
加仑/5L/20L/200L
常熟
显影液
NMD-3 2.38%
加仑/5L/20L/200L
常熟
NMD-W 2.38%(加表活)
加仑/5L/20L/200L
常熟
上一篇:
SU-8 2000系列
下一篇:
紫外光刻胶(Photoresist)
友情链接:
Copyright © 2022 半导体电子
沪ICP备2024067769号
XML地图
网站建设
15821942777
咨询热线:15821942777
微信二维码