您现在所在位置:首页>>MEMS微纳加工

光刻

刻蚀

镀膜

键合

掺杂

切割

打孔

减薄

抛光

PI工艺

TSV工艺

PDMS工艺

光刻掩模版

特色工艺

其他工艺

减薄

减薄

通常在晶片封装前,需要对晶片背面多余的基体材料去除一定的厚度,这一工艺过程称之为晶片减薄。在后道制程阶段,晶圆(正面已布好电路的硅片)在后续划片、压焊和封装之前···
2024-04-24[list:visits]
打孔

打孔

“打孔”可以适用于各种材料的微孔,应用于LED芯片制造,触摸屏,LCD,消费类电子,半导体,MEMS,照明,医疗等行业等。公司目前提供玻璃、金属片、硅片、半导体、芯片打孔···
2024-04-24[list:visits]
切割

切割

切割有时也叫“划片”,是芯片制造工艺流程中一道不可或缺的工序,在晶圆制造中属于后道工序。切割的目的是将整个晶圆上每一个独立的IC/MEMS通过激光或者高速旋转的金刚石刀···
2024-04-24[list:visits]
掺杂

掺杂

掺杂定义:就是用人为的方法,将所需的杂质(如磷、硼等),以一定的方式掺入到半导体基片规定的区域内,并达到规定的数量和符合要求的分布,以达到改变材料电学性质、制作···
2024-04-24[list:visits]
键合

键合

键合将两片表面清洁、原子级平整的同质或异质半导体材料经表面清洗和活化处理,在一定条件下直接结合,通过范德华力、分子力甚至原子力使晶片键合成为一体的技术。键合工艺···
2024-04-24[list:visits]
15821942777