| 电子束光刻胶 | 型号 | 光源 | 类型 | 分辨率 | 厚度 | 适用范围 |
| SU-8 GM1010 | 电子束 | 负性 | 100nm | 0.1-0.2 | 可适用于高宽比较大的纳米结构 | |
| HSQ | 电子束 | 负性 | 6nm | 30nm-180nm | 分辨率较好的光刻胶，抗刻蚀 | |
| XR-1541-002/004/006 | 电子束 | 负性 | 6nm | 30nm-180nm | 分辨率较好的光刻胶，抗刻蚀 | |
| HSQ FOX-15/16 | 电子束 | 负性 | 100nm | 350nm-810nm | 分辨率较好的光刻胶，抗刻蚀 | |
| PMMA(国产) | 电子束 | 正性 | / | 高分辨率适用于各种电子束工艺 | ||
| PMMA（进口） | 电子束 | 正性 | / | 高分辨率适用于各种电子束工艺 |
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