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光刻胶的去除方法及工艺

光刻胶的去除方法及工艺

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。在光刻工艺过程中,光刻胶被用作抗腐蚀涂层材料。半导体材···
2024-04-24[list:visits]
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